于涂装、电泳、电镀、半导体及印刷线电路板废水以及含油、酸和部分印染废水处理的自动控制。
        以含Cr⁶⁺、CN^—电镀废水为例，在一定的pH值条件下，通过投加NaHSO₄等还原剂可以将Cr⁶⁺还原成Cr³⁺，变为不溶性氢氧化物沉凝而加以除去。对于CN^—可投加NaCIO或H₂O₂等可以将其氧化成N₂。具体步骤分两步，即采用两级碱性氯化法：步，在碱性条件下(pH值为11左右)投加NaCIO，控制ORP为300mV左右，完成局部氧化破氰；第二步，保持pH值为8左右，继续投加NaCIO及H₂SO₄，控制ORP为650mV左右，实现氧化破氰过程，将分解为CO₂和N₂。